先导微电子申请一种离子源和镀膜装置专利提高了镀膜均匀性

　　金融界2025年8月19日消息，国家知识产权局信息显示，江苏先导微电子科技有限公司申请一项名为“一种离子源和镀膜装置”的专利，公开号CN120511181A，申请日期为2025年05月。

　　专利摘要显示，本发明涉及真空镀膜技术领域，具体公开了一种离子源和镀膜装置，包括：两组成夹角分布的线性单体，线性单体包括：基座，具有沿长度方向延伸的容纳槽和与容纳槽连通的基座进气接口；永磁体，设于容纳槽中；电极，设于容纳槽中且位于永磁体的两侧；绝缘层，设于容纳槽中且用于隔离电极和永磁体，绝缘层沿长度方向均布有多个进气孔；外框，安装于基座且位于容纳槽的开口处；以及内板，设于外框中，内板的外沿与外框的内壁之间形成间隙区域；其中，基座进气接口、进气孔和间隙区域依次贯通。

　　天眼查资料显示，江苏先导微电子科技有限公司，成立于2021年，位于徐州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本58824万人民币。通过天眼查大数据分析，江苏先导微电子科技有限公司参与招投标项目20次，财产线条，此外企业还拥有行政许可13个。

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